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Technologie

ASML: TSMC verschiebt High-NA Technologie auf 2029

ASML hat bekannt gegeben, dass TSMC die Einführung der High-NA Lithografie-Technologie auf 2029 verschiebt. Diese Entscheidung hat bedeutende Auswirkungen auf die Halbleiterindustrie und die zukünftigen Entwicklungen.

Sophie Braun21. Juli 2026